Brick 2 am 15.06.2021, 14.00 Uhr

Oberflächenmodifikation in der Elektronikfertigung & Halbleitertechnik

14.00 Uhr

EUV-Lithografie: Hochraten-Nanostrukturierung an den Grenzen der Physik

PD Dr. Andreas Erdmann

Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB)

14.25 Uhr

EUV Lithography enabled by High Power CO2 Laser

Dr. Marc Haast

ASML Holding N.V. 

14.50 Uhr

Skalierung der Laser-Mikrobearbeitung von Silizium zu hohen Durchsätzen mit einem 1 kW Sub-Pikosekunden Laser

Daniel Holder

Institut für Strahlwerkzeuge (IFSW), Universität Stuttgart

15.15 Uhr

Ultraviolett und ultrakurz: Der Einsatz von Lasern in der Displayproduktion

Kian Janami

TRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH

15.40 Uhr

Vorstellung Solution Center

ab 15.50 Uhr

Austausch mit den Austellern und Referenten beim Online-Networking Event

wonder.me